Sputtering Target

Titán-alumínium ötvözet PVD célpontok

Titán-alumíniumötvözet PVD-célpontok Leírás A bevonat célpontja egy porlasztóforrás, amely különféle funkcionális filmeket képez a hordozón, megfelelő folyamatkörülmények között magnetronos

Hozzáadás a vizsgálathoz
Bór Kör Porlasztás Cél

Boron Round Sputter Target Leírás A Boron Round Sputter Target egy filmkészítéshez használt anyag. Borid anyagokból készül porkohászattal (fémpor magas hőmérsékleten és nagy nyomáson préselve) vagy

Hozzáadás a vizsgálathoz
Króm sík porlasztásos célpont

Króm síkporlasztási cél jellemzők és alkalmazás Az eredeti króm elemet számos eljárással meg kell tisztítani, például magas hőmérsékletű olvasztással, finomítással és elektrolízissel, majd a

Hozzáadás a vizsgálathoz
99,95 százalékos krómporlasztásos cél

99,95 százalékos krómporlasztásos célpont Jellemzők és alkalmazás A 99,95 százalékos krómporlasztásos cél egy nagy tisztaságú fémcél, amellyel különféle anyagokat kiváló krómbevonattal lehet bevonni.

Hozzáadás a vizsgálathoz
Krómporlasztó kerek célpontok

Krómporlasztásos körcélpontok Leírás A krómfémet főleg nyersanyagként használják különféle ötvözetek előállításához. A krómfém ipari gyártása elsősorban két módszert alkalmaz: alumíniumtermikus

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán krómötvözet kerek célpontok

A titán-krómötvözet kerek célpontok hordozók vagy felületi bevonatok készítésére használhatók, és felhasználhatók mechanikus kések, autó- és motorkerékpár-dekoráció, IT-termékhéj- és kulcsdekorációs

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán Króm Planar Target

A Titanium Chromium Planar Target nagyon alkalmas korrózió- és kopásálló bevonatok porlasztására, amelyek megvédhetik a rendkívül korrozív vegyi környezetben és magas hőmérsékletű környezetben

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán alumínium porlasztó célpontok

A Titanium Aluminum Sputter Targets a fém titán és fémalumínium kiváló tulajdonságaival rendelkezik, mint például a nagy rugalmasság, nagy kopásállóság, kiváló elektromos és hővezető képesség,

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán-alumínium célpontok

A titán-alumínium célpontok javíthatják a vágószerszámok keménységét és élettartamát, és széles körben használják hardverszerszám-bevonatokban, dekoratív bevonatokban, lapos kijelzőbevonatokban, PVD-

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titanium Ti porlasztó célpont

A Titanium Ti Sputtering Targetet gyakran használják tiszta titán film porlasztására vagy TiN film reaktív porlasztására, főleg diffúziós gátrétegként használják alumíniummal összekapcsolva, és

Hozzáadás a vizsgálathoz
99,99 százalék tiszta titán célpontok

A 99,99 százalékos Pure Titanium Targets nemcsak a nagy tisztaság, a jó kopásállóság, a hosszú élettartam és a kiváló bevonatminőség előnyeivel rendelkezik, hanem a titán összes kiváló tulajdonságát

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán-szilícium porlasztó célpontok

Titán-Szilícium Sputtering Targets Leírás A Titán-Szilícium Sputtering Targets kiváló tulajdonságú nitrid kemény anyagrétegeket biztosít, mert a szilícium magas oxidációs ellenállást, míg a titán

Hozzáadás a vizsgálathoz

Haza 2 3 4 5 6 7 8 Az utolsó oldalon 5/11

Jól ismertek vagyunk, mint az egyik vezető porlasztó célpont gyártó és beszállító Kínában. Ha kiváló minőségű porlasztó célpontot szeretne vásárolni versenyképes áron, kérjük, kérjen árajánlatot gyárunktól. Emellett személyre szabott szolgáltatás is elérhető.

(0/10)