Fém porlasztó célpont

Nagy tisztaságú króm porlasztó cél

Nagy tisztaságú krómporlasztási cél Leírás A króm acélszürke, fényes, kemény és törékeny átmenetifém. A nagy tisztaságú krómporlasztási célt általában vákuumolvasztással vagy forró izosztatikus

Hozzáadás a vizsgálathoz
99,5%-os bórporlasztó célpontok

99,5%-os bórporlasztási célpontok Leírás A bevonat célpontja egy porlasztóforrás, amely különféle funkcionális filmeket képez az alapfelületen, megfelelő folyamatkörülmények között magnetronos

Hozzáadás a vizsgálathoz
Molibdén (Mo) porlasztó célpontok

Molibdén (Mo) porlasztási célpontok Leírás Élvonalbeli vékonyréteg-anyag-előkészítési technológiaként a porlasztásnak két jellemzője van: nagy sebesség és ultraalacsony hőmérséklet. A molibdén (Mo)

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán fém céltárgy

Titanium Metal Target Leírás A Titanium Metal Target főként elektronsugaras hűtésű olvasztási módszerrel készül. Nagy tisztaságú, nagy fajlagos szilárdságú, jó szívósság oxigénmentes környezetben,

Hozzáadás a vizsgálathoz
Nikkel fém porlasztó célpontok

Nikkel fémporlasztási célpontok Leírás Az iparban a nikkelt általában ötvözet-előkészítésben, akkumulátorgyártásban és katalizátorként használják. A nikkelt különösen a célanyagok terén széles körben

Hozzáadás a vizsgálathoz
Króm fém porlasztó célpontok

Króm fémporlasztási célpontok Leírás A króm magas olvadásponttal és jó oxidációs ellenállással rendelkezik, ami lehetővé teszi, hogy a krómcél stabil maradjon magas hőmérsékletű környezetben.

Hozzáadás a vizsgálathoz
TiAl titánötvözet porlasztó célpont

TiAl titánötvözet porlasztási célpont leírása A porlasztási cél a porlasztásos leválasztási folyamatban használt nyersanyagra vonatkozik. Arra a folyamatra utal, amelyben atomok kilökődnek a szilárd

Hozzáadás a vizsgálathoz
Titán-alumínium ötvözet PVD célpontok

Titán-alumíniumötvözet PVD-célpontok Leírás A bevonat célpontja egy porlasztóforrás, amely különféle funkcionális filmeket képez a hordozón, megfelelő folyamatkörülmények között magnetronos

Hozzáadás a vizsgálathoz
Bór Kör Porlasztás Cél

Boron Round Sputter Target Leírás A Boron Round Sputter Target egy filmkészítéshez használt anyag. Borid anyagokból készül porkohászattal (fémpor magas hőmérsékleten és nagy nyomáson préselve) vagy

Hozzáadás a vizsgálathoz
Króm sík porlasztásos célpont

Króm síkporlasztási cél jellemzők és alkalmazás Az eredeti króm elemet számos eljárással meg kell tisztítani, például magas hőmérsékletű olvasztással, finomítással és elektrolízissel, majd a

Hozzáadás a vizsgálathoz
99,95 százalékos krómporlasztásos cél

99,95 százalékos krómporlasztásos célpont Jellemzők és alkalmazás A 99,95 százalékos krómporlasztásos cél egy nagy tisztaságú fémcél, amellyel különféle anyagokat kiváló krómbevonattal lehet bevonni.

Hozzáadás a vizsgálathoz
Krómporlasztó kerek célpontok

Krómporlasztásos körcélpontok Leírás A krómfémet főleg nyersanyagként használják különféle ötvözetek előállításához. A krómfém ipari gyártása elsősorban két módszert alkalmaz: alumíniumtermikus

Hozzáadás a vizsgálathoz

Kína egyik vezető fémporlasztási célpont-gyártója és -szállítójaként közismertek vagyunk. Ha kiváló minőségű fémporlasztó célpontot szeretne vásárolni versenyképes áron, várjuk, hogy árajánlatot kapjon gyárunktól. Emellett személyre szabott szolgáltatás is elérhető.

(0/10)