Titán szilícium sík porlasztó célpontok

Titán szilícium sík porlasztó célpontok leírása

A titán-szilicid egy szervetlen vegyület, amelyet jellemzően szilícium- és poliszilícium-vezetékeken szilicid technikák alkalmazásával állítanak elő a helyi tranzisztor-csatlakozások lapellenállásának csökkentése érdekében. A titán-szilícium síkporlasztó célpontokat általában fejlett HIP technológiával állítják elő, amely számos előnnyel rendelkezik, mint például a nagy keménység, alacsony kopás, kiváló hősokkállóság, nagy tisztaság, finom és egyenletes szemcsék, hosszú élettartam, magas oxidációs ellenállás és magas bevonat minőség . A Titanium Silicon Planar Sputtering Targets kiváló anyag fémbevonathoz. Az általa bevont vasalatszerszámok nagyon kopásállóak, így nagy forgácsolási sebességgel dolgoznak, sőt nagyon kemény nikkelötvözeteket és titán anyagokat is meg tudnak dolgozni. A titán-szilícium síkporlasztó célpontok szintén nagyon alkalmasak a félvezetőiparban, dekorációban, kijelzőben, LED-es és fotovoltaikus eszközökben, üvegbevonatban és más iparágakban.

Titán szilícium sík porlasztásos célpontok specifikációi:

Titán szilícium sík porlasztó célpontok Képek:

Népszerű tags: titán szilícium sík porlasztási célpontok, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, nagykereskedelmi, ár, árajánlat, eladó