Titán szilícium porlasztó célpont
Titán szilícium porlasztó célpont
A FANMETAL a Ti-Si ötvözetből készült titán-szilícium porlasztó célpontot szállítja, amelyet a PVD bevonatrendszerben használnak. TiSi ötvözet összetétele: 85:15 százalék 80:20 százalék 75:25 százalék. Biztosítjuk továbbá a fémcélt és a párologtató anyagot 99,9999 százalékos tisztaságig, nemesfém céltárgyat (Au, Ag, Pt), célragasztó szolgáltatást, tégelybéléseket (réz, molibdén, volfrám stb.)
A mágneses porlasztásos bevonat a fizikai gőzbevonat új típusa. Elektronágyús rendszerrel elektronokat bocsát ki és fókuszál a bevonandó anyagra, így a porlasztott atomok az impulzus-átalakítás elvét követik, és nagyobb mozgási energiával hagyják el az anyagot. Repüljön az aljzatra, hogy filmet rakjon le. Ezt a bevonandó anyagot porlasztó célpontnak nevezzük. A porlasztó célpontok közé tartoznak a fémek, ötvözetek és kerámiavegyületek.
Titán szilícium porlasztó célkép:
Típusok | Chemical Comp. | Tisztaság | Alakzatok | Feldolgozás |
Alumínium alapú ötvözetek | Al-Mg | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás |
Al-Si | 4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Al-Si-Mg | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Al-Si-Cu | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Zn-Al | 4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Kobalt alapú ötvözetek | Co-Cr | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás |
Co-Fe | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Co-Ni | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Co-Ni-Cr | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Nikkel alapú ötvözetek | Ni-Cr | 3N5 | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás |
Ni-Co | 4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-Cu | 4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-Cr-Al | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-Cr-Al-Si | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-Cr-Si | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-Fe | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ni-V | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Titán alapú ötvözetek | Ti-Al | 4N | Rúd, részecske, cél | Meleg izosztatikus préselés |
Ti-Cr | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ti-Si | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Ti-Zr | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
W-Ti | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Egyéb ötvözetek | Cr-Si | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Speciális szinterezés |
Cr-V | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Fe-Mn | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Fe-Co-B | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Speciális szinterezés | |
In-Sn | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás | |
Zr-Fe | 3N,4N | Rúd, részecske, cél | Vákuumos olvasztás |
Népszerű tags: Titanium Silicon Sputtering Target, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, nagykereskedelmi, ár, árajánlat, eladó
A szálláslekérdezés elküldése
