Nagy tisztaságú króm porlasztó cél

Nagy tisztaságú krómporlasztó célpont leírása

A króm acélszürke, fényes, kemény és törékeny átmenetifém. A nagy tisztaságú krómporlasztási célt általában vákuumolvasztással vagy forró izosztatikus préselési eljárással állítják elő. Jellemzői a magas olvadáspont, a korrózióállóság, a magas hőmérséklet-állóság, az ütésállóság, a kopásállóság, a nagy szilárdság és a keménység, és nagy tisztasággal és tapadóképességgel porlasztható. Kiváló minőségű fólia kiváló tulajdonságokkal, jó egyenletességgel, kiváló korrózióállósággal, kopásállósággal és tartóssággal. A vákuumfeldolgozó iparban a High Purity Chromium Sputter Target viszonylag stabil krómionsugarat képes előállítani, ami lehetővé teszi szubsztrátumok vagy felületi bevonatok készítését a szubsztrátumok védelmére, vagy olyan iparágak előállítását, amelyek különösen nagy oxidációs ellenállást igényelnek. Összetevő. A High Purity Chromium Sputter Target rendszerint PVD és CVD feldolgozási folyamatokban használják dekoratív bevonatok, korrózióálló bevonatok és fényvisszaverő bevonatok előállítására. Különböző színű krómbevonatokat is képes bevonni a folyamatparaméterek beállításával.

A nagy tisztaságú krómporlasztó célspecifikációi:

Nagy tisztaságú krómporlasztásos célképek:

Népszerű tags: nagy tisztaságú króm porlasztó cél, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, nagykereskedelmi, ár, árajánlat, eladó