Bórfröccsenő célpont

Bórporlasztási célpont leírása

A porlasztási eljárás főként egy ultranagy tisztaságú porlasztott fém- vagy oxidanyag vékony filmrétegének felvitele egy másik szilárd hordozóra, és a célanyag eltávolításának és átalakításának irányított gáz/plazmafázissá történő szabályozása ionbombázással. A bór a Naprendszerben és a földkéregben alacsony előfordulású elem. Szobahőmérsékleten gyenge, magas hőmérsékleten pedig jó vezető. A Boron Sputtering Target kiváló fizikai és kémiai tulajdonságokkal, magas olvadásponttal, legkisebb átlagos szemcsemérettel, magas hőmérsékleti korrózióállósággal, jó tartóssággal, jó elektromos vezetőképességgel és magas költséghatékonysággal rendelkezik. Ez egy kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) és fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD)) kiváló előkészítő anyagokból. A bórporlasztási célpontokat széles körben használják, főleg a nukleáris iparban, az üvegbevonat-iparban, az elektronikus információs iparban, a vegyiparban, a biomedicinában, a repülőgépiparban, a csúcsminőségű dekorációs termékekben és a fémkohászatban stb.

A bórporlasztási cél specifikációi:

Bórfröccsenő célképek:

Népszerű tags: bórporlasztási cél, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, nagykereskedelem, ár, árajánlat, eladó