A titán termékek iránt egyre nagyobb a kereslet a különböző piacokon, és folyamatosan frissítjük technológiánkat a kiváló minőségű termékek biztosítása érdekében. A célanyag esetében minél nagyobb a fém kémiai tisztasága, annál jobb a belőle készült film vezetőképessége. A titán porlasztási célpont tisztasága eléri a 99,99 százalékot, és főleg elektronsugaras hűtéssel és olvasztással állítják elő. A múlt hónap végén a legyártott Titanium Sputtering Targeteket sértetlenül elküldtük Szingapúrba nemzetközi expressz útján. Kérjük, bízzon termékeink csomagolásának szabványosításában és biztonságában. A szingapúri vásárlók nagyon elégedettek termékeinkkel. Nemcsak köszönetüket fejezték ki felénk, hanem kifejezték hajlandóságukat is, hogy továbbra is együttműködjenek velünk a titán termékek terén. Ha szükséges, forduljon hozzánk e-mailben.
A 99,99 százalékos Pure Titanium Targets nemcsak a nagy tisztaság, a jó kopásállóság, a hosszú élettartam és a kiváló bevonatminőség előnyeivel rendelkezik, hanem a titán összes kiváló tulajdonságát is tartalmazza, mint például a nagy fajlagos szilárdság, a jó biokompatibilitás, a jó korrózióállóság és környezetvédelem Jó teljesítmény, könnyű súly és magas hőmérsékletállóság. A nagy tisztaságú titán porlasztó céltárgy általában két típusból áll: kerek céltárgyból és lemezes célból, amelyek nagyon alkalmasak a félvezetőiparban, a lapos kijelzőiparban, az információtárolóban és a napelemekben és más területeken történő alkalmazásra. Az általa előállított vékony filmet általában VLSI chipekben használják. Az egyik zárófólia-anyag, nagy sűrűségű és megbízható összeköttetést tud megvalósítani a chipek és a chipek, valamint a chipek és a hordozók között.
